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Nanoelectronics

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Apparato per la deposizione chimica da vase vapore (CVD) di materiali a bassa dimensionalitĂ  (2D)

Deposizione Chimica da Fase Vapore con Composti Metallorganici (MOCVD)

Autori

  • Alessio Lamperti / CNR-IMM
  • Massimo Longo / CNR-IMM
  • Alessandro Molle / CNR-IMM

Contenuto in

  • Tecniche di analisi
  • Facilities

Parole chiave

MOCVD TMD Nanoelectronics Deposizione chimica da fase vapore con composti metallorganici transition metal dichalcogenides chemical vapor deposition semiconductors CVD photonics optoelectronics photovolatic low power 2D monolayers Weyl semimetals nanosheets 2-dimensional Thermoelectrics Film sottili Nanostrutture TermoelettricitĂ  Metalorganic chemical vapor deposition Nanostructures Thin films Nanoelettronica

Progetto I-ZEB

Questo lavoro risponde alle attività del progetto I-ZEB "Verso edifici intelligenti a Energia Zero per la crescita della città intelligente" nell’ambito del III Accordo Quadro CNR/Regione Lombardia.
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